|
بهینه سازی خواص تشعشعی بهینه نانو مقیاس در محدوده نوری مرئی، فروسرخ و فرابنفش با الگوریتم ازدحام ذرات
|
| سید امیر عباس علومی1، مهدی محمدی*2 |
1- دانشگاه آزاد اسلامی واحد یزد، گروه مهندسی مکانیک، یزد
2- دانشگاه علمی کاربردی واحد تفت، گروه مهندسی برق، یزد ، mm6400y@gmail.com |
|
|
چکیده: (1276 مشاهده) |
لایه ی نازک به لایه‌ای از مواد گویند که دارای ضخامت نانومتری تا محدوده چندین میکرومتر می‌باشد. این لایه بر روی سطح قطعات و مواد دیگر قرار گرفته و به آنها خصوصیت ویژه و جدیدی را می‌بخشد. خواص لایه‌های نازک، نظیر خواص مکانیکی، نوری، الکتریکی و غیره به پارامترهای زیادی وابسته است که این پارامترها مربوط به روش تولید، کیفیت و نوع ماده‌ی زیر‌لایه خواهند بود. با توجه به عملکرد و خواص لایه‌های نازک، می‌توان از آنها جهت بهبود تکنولوژی‌هایی نظیر سلول‌های خورشیدی، سنسورها، کاربردهای نوری، مهندسی الکترونیک و فروالکترونیک نیز استفاده نمود و امروزه کاربرد لایهنشانی در صنایع، موضوع توسعه یافته‌ای است، به گونه‌ای که بخش بزرگی از زندگی مدرن را مدیون توسعه صنعت لایهنشانی می‌دانند. در پژوهش پیش‌رو خواص تشعشعی طیفی، جهتی و وابسته به دما از قبیل ضریب بازتاب، ضریب عبور و ضریب گسیل برای نانو پوشش‌ها شامل سیلیکون، دی‌اکسید سیلیسیم، نیترات سیلیسیم مورد بحث و بررسی قرار می‌گیرد و با استفاده از الگوریتم ازدحام ذرات به دنبال جواب بهینه برای این ضرایب در محدوده نوری مرئی، فروسرخ و فرابنفش می‌باشد، بدین صورت که این الگوریتم با انتخاب مناسب‌ترین ترکیب از جنس، تعداد و ضخامت لایه، بهترین خواص تشعشعی را در طیف کامل نوری نتیجه خواهد داد. |
|
| واژه‌های کلیدی: لایه‌های نازک، الگوریتم بهینه سازی ازدحام ذرات، خواص تشعشعی، بهینه سازی |
|
|
متن کامل [PDF 713 kb]
(229 دریافت)
|
نوع مطالعه: پژوهشي |
موضوع مقاله:
عمومى
دریافت: 1396/9/17 | پذیرش: 1396/10/29 | انتشار: 1398/6/25
|
|
|
|
|
|
|
| ارسال پیام به نویسنده مسئول |
|
|
|
| ارسال نظر درباره این مقاله |
|
|
|
.jpg)
